●CVD装置より排出されるSiO2パウダ等の反応生成物を完全にトラップするフィルタユニットとSiH4、TEOS等の有毒ガスをTLV値以下に完全除害する触媒ユニットで構成されています。
●連続稼働仕様（CVD装置の稼働を停止することなくメンテナンス可能）
●新型パンチング方式の完全自動再生機構フィルタユニット
●ワンタッチジョイントのカートリッジ式各ユニット
●バイパスライン、瞬停再始動ユニット、インターロック回路標準装備
●新型ロータバルブ搭載（ 各ユニット切替時のCVD装置排気圧力の一定化）
●非常に安価なランニングコスト
●大風量型処理CVD装置にも容易に対応

乾式排ガス処理装置のメリット

• 有毒ガスを触媒ユニットにて吸着処理しますので、他方式（燃焼式、熱分解式）と違って装置内でのNOx、CO2等の発生が一切無く、排出ガスをそのまま大気に放出できます。
• SiO2等の反応生成物をフィルタユニットにて完全にトラップしますので、装置後段での配管清掃等の二次メンテナンスは全く発生しません。
• ユーティリティは商用電源のみ（LPG、用水等一切不要）ですので、ランニングコストの削減、安全性を確保できます。
• 他排ガス処理装置にくらべて、フィルタ、触媒ユニットの長寿命化に加え、エレメント自体を安価にすることにより、乾式排ガス処理装置の課題であるランニングコストの低減を実現しています。
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  　■ 処理対象ガス
  　　　SiH4、PH3、B2H6、AsH3、HCｌ、NH3、TEOS、O3、TMOP、TEB　等
  　■ 処理対象粉体
  　　　SiO2パウダ等粒子径0.3μm以上の粉体